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英特爾作為半導(dǎo)體行業(yè)的巨頭,雖然目前在晶圓代工方面與臺積電等公司相比幾乎沒有代工業(yè)務(wù),但其野心卻不容小覷。近期,英特爾推出了IDM 2.0策略,不斷更新自家的工藝制程以滿足客戶需求。為了進(jìn)一步推動晶圓代工業(yè)務(wù)的發(fā)展,在最近的企業(yè)改革中,英特爾宣布將芯片生產(chǎn)業(yè)務(wù)獨(dú)立核算,并對外開放芯片代工業(yè)務(wù)。同時,英特爾也開始向外界介紹自家的18A工藝。
在引入全新的制程命名方法后,英特爾對工藝制程的命名主要采用等效命名。例如,英特爾的Intel 7工藝制程實際上是基于10nm工藝,其晶體管密度和電氣性能與競爭對手的7nm制程相當(dāng)。而即將量產(chǎn)的Intel 4工藝則是以7nm制程為基礎(chǔ)。然而,如果英特爾希望超越臺積電在性能方面的表現(xiàn),就需要更出色的工藝制程。未來的Intel 18A工藝就是一個例子?;?0A工藝的改進(jìn),18A工藝采用了PowerVia背面供電和RibbonFET全環(huán)繞柵極等最新工藝。據(jù)英特爾表示,18A工藝將比競爭對手的1.8nm工藝更先進(jìn)。
此外,英特爾還表示18A工藝目前進(jìn)展順利,計劃于2024年下半年開始量產(chǎn)。進(jìn)展速度比臺積電和三星更順利。不過,目前英特爾面臨的尷尬是其所謂的第15代酷睿處理器似乎將從Intel 3工藝轉(zhuǎn)投臺積電的3nm工藝。這似乎暗示英特爾認(rèn)為自家的工藝制程無法滿足桌面處理器的計算需求。
英特爾正在加速其代工業(yè)務(wù)的發(fā)展,并介紹了18A工藝作為未來的突破點(diǎn)。這顯示了英特爾對晶圓代工領(lǐng)域的雄心壯志,并希望能夠挑戰(zhàn)臺積電等行業(yè)巨頭的地位。盡管目前英特爾在代工領(lǐng)域的份額相對較小,但通過不斷更新工藝制程和開放代工業(yè)務(wù),英特爾有望在未來取得更大的突破,并成為半導(dǎo)體行業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)者之一。我們期待看到英特爾在代工業(yè)務(wù)上的進(jìn)一步發(fā)展,以及18A工藝的量產(chǎn),為整個行業(yè)帶來更多創(chuàng)新和競爭力。
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