等離子刻蝕（關(guān)于等離子刻蝕的簡(jiǎn)介）

大家好，等離子刻蝕，關(guān)于等離子刻蝕的簡(jiǎn)介很多人還不知道，現(xiàn)在讓我們一起來(lái)看看吧！

1、等離子刻蝕機(jī)，又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。

2、等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

3、某種程度來(lái)講，等離子清洗實(shí)質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。

4、進(jìn)行干式蝕刻工藝的設(shè)備包括反應(yīng)室、電源、真空部分。

5、工件送入被真空泵抽空的反應(yīng)室。

6、氣體被導(dǎo)入并與等離子體進(jìn)行交換。

7、等離子體在工件表面發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)的揮發(fā)性副產(chǎn)物被真空泵抽走。

8、等離子體刻蝕工藝實(shí)際上便是一種反應(yīng)性等離子體工藝。

9、近期的發(fā)展是在反應(yīng)室的內(nèi)部安裝成擱架形式，這種設(shè)計(jì)的是富有彈性的，用戶可以移去架子來(lái)配置合適的等離子體的蝕刻方法：反應(yīng)性等離子體（RIE），順流等離子體（downstream），直接等離子體（direction plasma）。

本文關(guān)于等離子刻蝕的簡(jiǎn)介就講解完畢，希望對(duì)大家有所幫助。