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信息量很大 進度比預想的要快 國產光刻機為何最終能成

2023-08-03 19:37:52 編輯：左逸靄 來源：
導讀 7月31日，新華網發(fā)布一篇文章對國產光刻機如何突圍做出了自己的觀點。最近這兩年來，國產光刻機在低調的發(fā)展，相關的內容進展也一直有所保留，雖然小道消息傳出不斷。

7月31日，新華網發(fā)布一篇文章對國產光刻機如何突圍做出了自己的觀點。最近這兩年來，國產光刻機在低調的發(fā)展，相關的內容進展也一直有所保留，雖然小道消息傳出不斷。但是經過官方驗證的消息卻很少，從目前國產光刻機的發(fā)展進度來看，這些光刻機的發(fā)展速度，也比預想中要快一些，光刻機關鍵環(huán)節(jié)或許正在突破。

新華網此次的消息中透露，上海微電子正在致力于研發(fā)28納米的浸沒式光刻機，預計將會在3202年年底實現量產，將第一臺SSA/800-10W光刻機設備交付給市場。此前華為獲得的一項最新專利，極紫外光刻機設備也在核心技術方面取得了突破性的進展，國家知識產權局公布了華為在這方面的一項最新專利。

此次透露出了這些消息，真實性是毫無疑問的，畢竟是官方媒體公布的信息，信息來源是肯定靠譜的。這些事情的來源如果屬實，上海微電子能夠生產28納米的光刻機，意味著我國已經解決光刻機研制從無到有的問題。其次華為的反射鏡，光刻裝置以及控制方法的研制成功，意味著我們能夠在極紫外線光刻機領域實現從1到100的突破。

各種關鍵信息來看，關鍵環(huán)節(jié)的突破問題對于我們來說只剩下時間，畢竟中國光刻機設備的消息早在此前就已經傳出很多卡脖子技術的突破問題。外界永遠不對這些方面不知道進度，等知道這些進度的時候，國產光刻機已經實現了大規(guī)模的量產?，F在對于我們來說高端光刻機還是比較不容樂觀的，仍舊受到國外勢力的卡脖子現象，我國的半導體行業(yè)發(fā)展形式受限。


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