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光刻機大廠佳能近期宣布已經(jīng)開始銷售基于“納米印刷”技術的芯片生產(chǎn)設備,該設備采用不同于復雜光刻技術的方案,可以制造5納米芯片。這套生產(chǎn)設備的工作原理與ASML的光刻機是不一樣的,其并不利用光學圖像投影的原理,將集成電路的微觀結構轉移到硅晶圓,則是更類似于印刷技術,直接通過壓印形成圖案。
與傳統(tǒng)的EUV光刻技術相比,這項技術能夠大大的降低耗能,并且可以降低設備成本。雖然這項技術的優(yōu)點很明顯,但是現(xiàn)階段導入量產(chǎn)上仍然有很多問題需要繼續(xù)解決,包括更容易因為空氣當中的細微塵埃影響而形成瑕疵。本次佳能發(fā)布的設備可以應用于最小14平方毫米的硅晶圓,從而能夠生產(chǎn)出相當于5納米工藝的芯片。
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