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光刻機大廠佳能近期宣布已經(jīng)開始銷售基于“納米印刷”技術(shù)的芯片生產(chǎn)設(shè)備,該設(shè)備采用不同于復雜光刻技術(shù)的方案,可以制造5納米芯片。這套生產(chǎn)設(shè)備的工作原理與ASML的光刻機是不一樣的,其并不利用光學圖像投影的原理,將集成電路的微觀結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到硅晶圓,則是更類似于印刷技術(shù),直接通過壓印形成圖案。
與傳統(tǒng)的EUV光刻技術(shù)相比,這項技術(shù)能夠大大的降低耗能,并且可以降低設(shè)備成本。雖然這項技術(shù)的優(yōu)點很明顯,但是現(xiàn)階段導入量產(chǎn)上仍然有很多問題需要繼續(xù)解決,包括更容易因為空氣當中的細微塵埃影響而形成瑕疵。本次佳能發(fā)布的設(shè)備可以應(yīng)用于最小14平方毫米的硅晶圓,從而能夠生產(chǎn)出相當于5納米工藝的芯片。
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