您的位置: 首頁 >商業(yè) >

這一光刻技術(shù)比EUV更具發(fā)展?jié)摿?比EUV更先進(jìn)

2023-06-24 18:44:26 編輯:龍蝶秋 來源:
導(dǎo)讀 對半導(dǎo)體行業(yè)而言,光刻技術(shù)和相應(yīng)的設(shè)備發(fā)揮著至關(guān)重要的作用,光刻設(shè)備是把設(shè)計(jì)好的圖形從模板中轉(zhuǎn)印到晶圓表面的光刻膠上所采用的一種技...

對半導(dǎo)體行業(yè)而言,光刻技術(shù)和相應(yīng)的設(shè)備發(fā)揮著至關(guān)重要的作用,光刻設(shè)備是把設(shè)計(jì)好的圖形從模板中轉(zhuǎn)印到晶圓表面的光刻膠上所采用的一種技術(shù),之后就可以運(yùn)用在制造印刷電路板的工藝上。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的逐漸興起,光刻技術(shù)就開始運(yùn)用在各種晶體管和集成電路的制造上,目前,光刻技術(shù)也是IC制造領(lǐng)域中最基礎(chǔ)的技術(shù)之一。

在整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展歷史當(dāng)中,光刻技術(shù)的發(fā)展經(jīng)歷了很多階段,分布投影式光刻出現(xiàn)比較早,集成電路生產(chǎn)主要是采用了掃描式光刻,深紫外光刻和極紫外光刻等等。除此之外電子束光刻,激光直寫等技術(shù)也在不斷的研發(fā)當(dāng)中,比如直寫光刻技術(shù)采用激光直接轟擊在對象的表面層次上,讓目標(biāo)形成納米圖案構(gòu)造,這種技術(shù)無需過于昂貴的模板,生產(chǎn)周期也比較短,目前已經(jīng)廣泛應(yīng)用在PCB和封裝領(lǐng)域。

在先進(jìn)封裝階段,光刻機(jī)主要是用于倒裝的凸塊,重分布層的制作工藝,與此前的制造階段不同,光刻工藝在封裝的時候需要用到金屬電極接觸。這樣對封裝用的光刻設(shè)備會有更小的寬處理,所以工藝精度的要求也會變得更加嚴(yán)格,在凸塊的制作過程中,光刻主要是運(yùn)用互聯(lián)的制造工藝流程。目前,業(yè)內(nèi)比較常見的工藝分別是印刷和電鍍的方式,在曝光的過程中需要將掩膜放在光組層上面,使其在照射區(qū)域發(fā)生一些化學(xué)變化。

相比于傳統(tǒng)的沖壓法,蝕刻法的精度會更高一些,能夠去生產(chǎn)多角位更加薄的產(chǎn)品,所以這項(xiàng)工藝也成為引線框架未來發(fā)展的主要路線,對于直寫光刻設(shè)備的需求量也有著更多的增長,出于對成本和實(shí)用性的考量。目前國內(nèi)只有幾家封測大廠在嘗試使用直寫光刻代替掩膜光刻的設(shè)備。


免責(zé)聲明:本文由用戶上傳,如有侵權(quán)請聯(lián)系刪除!

最新文章

精彩推薦

圖文推薦

點(diǎn)擊排行

2016-2022 All Rights Reserved.平安財經(jīng)網(wǎng).復(fù)制必究 聯(lián)系QQ   備案號:

本站除標(biāo)明“本站原創(chuàng)”外所有信息均轉(zhuǎn)載自互聯(lián)網(wǎng) 版權(quán)歸原作者所有。

郵箱:toplearningteam#gmail.com (請將#換成@)