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大家好,光刻工藝,關(guān)于光刻工藝的簡(jiǎn)介很多人還不知道,現(xiàn)在讓我們一起來(lái)看看吧!
1、光刻(photoetching)是通過(guò)一系列生產(chǎn)步驟,將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝。
2、晶圓表面會(huì)留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜。
3、通過(guò)光刻工藝過(guò)程,最終在晶圓上保留的是特征圖形部分。
4、光刻膠涂復(fù)后,在硅片邊緣的正反兩面都會(huì)有光刻膠的堆積。
5、光刻過(guò)程中的錯(cuò)誤可造成圖形歪曲或套準(zhǔn)不好,最終可轉(zhuǎn)化為對(duì)器件的電特性產(chǎn)生影響。
6、光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。
7、是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開(kāi)孔,以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。
本文關(guān)于光刻工藝的簡(jiǎn)介就講解完畢,希望對(duì)大家有所幫助。
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