日本將斥資 23.8 億美元建設(shè) 2nm 工藝節(jié)點(diǎn)開發(fā)研究中心

今年早些時(shí)候，當(dāng)日本和美國宣布聯(lián)合開發(fā) 2nm 制造技術(shù)時(shí)，我們持懷疑態(tài)度。但事實(shí)證明，日本政府對該項(xiàng)目非常重視，并計(jì)劃撥款約 3500 億日元(近 23.8 億美元)與美國建立聯(lián)合研究中心

據(jù)日經(jīng)新聞報(bào)道，該研究中心將由尚未命名的日本和美國半導(dǎo)體公司以及來自日本、美國和歐洲的多所大學(xué)組成。在日本的大學(xué)中，商業(yè)刊物將東京大學(xué)、國立先進(jìn)工業(yè)科學(xué)技術(shù)研究所和理研命名為。據(jù)說IBM也是參與的候選人之一。

該中心將進(jìn)行基礎(chǔ)研究，以探索在本世紀(jì)下半葉使用 2nm 級制造技術(shù)制造芯片所需的材料。但目前尚不清楚日本是否有計(jì)劃建造真正的晶圓廠來生產(chǎn)商業(yè)芯片。如果存在這樣的計(jì)劃，目前還不清楚哪家日本公司有足夠的資金和規(guī)模在前沿節(jié)點(diǎn)上制造芯片。

日本公司成為微電子市場的領(lǐng)導(dǎo)者已經(jīng)有一段時(shí)間了。如今，只有鎧俠在日本生產(chǎn)領(lǐng)先的內(nèi)存。其他日本芯片開發(fā)商要么使用尾隨節(jié)點(diǎn)在國內(nèi)生產(chǎn)產(chǎn)品，要么將生產(chǎn)外包給臺積電(TSMC)。

但日本政府希望振興該國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，這就是為什么它批準(zhǔn)了對鎧俠和西部數(shù)據(jù)、美光和臺積電在該國建設(shè)新晶圓廠的補(bǔ)貼。

除了在新的研究中心投入 3500 億日元(23.8 億美元)外，日本政府還打算在先進(jìn)的生產(chǎn)中心投入 4500 億日元(30.71 億美元)，并在確保所需材料方面投入 3700 億日元(25.25 億美元)對于制造業(yè)，這強(qiáng)調(diào)了日本當(dāng)局對芯片行業(yè)的重視程度。