納米壓印與光刻技術互補站在世界水平

2023-11-27 15:01:36 編輯：司馬啟河來源：

導讀佳能從2004年開始就探索納米壓印技術，在2017年推出首臺樣機。目前這個樣機可以實現(xiàn)最小線寬14納米的圖案化，相當于當下生產最先進的邏輯半...

佳能從2004年開始就探索納米壓印技術，在2017年推出首臺樣機。目前這個樣機可以實現(xiàn)最小線寬14納米的圖案化，相當于當下生產最先進的邏輯半導體所需的5納米制程。佳能推出全新的設備之后，通過納米壓印技術，可能會實現(xiàn)彎道超車。

當下的納米壓印技術已經在大批量生產上取得了巨大的進步，但仍然存在著各種各樣的問題，比如結構均勻性與分辨率，缺陷率控制，模板壽命等等。納米壓印技術只能夠用于對精度要求不太高的芯片，生產過程中的一些步驟也無法使用到這項技術。在光刻技術越來越艱難的情況下，納米壓印光刻也成為之后發(fā)展的一縷曙光。佳能雖然有先發(fā)優(yōu)勢，但是與我國的納米壓印技術相比并沒有強多少。國內也有很多的科研公司正在研發(fā)納米壓印技術，在專利布局上僅次于美國。