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將我們的尖端納米SQUID與石墨烯的量子霍爾相中的掃描門測量相結(jié)合,我們能夠分別測量和識別功和散熱過程。測量結(jié)果表明,由于邊緣重建,耗散受到在石墨烯邊界處出現(xiàn)的反向傳播的下游通道對和上游通道對之間串?dāng)_的控制。
但是,代替局部焦耳加熱,耗散機(jī)制包括兩個截然不同且在空間上分開的過程。我們直接成像的工作產(chǎn)生過程涉及量子通道之間的電荷載流子的彈性隧穿,它決定了傳輸性質(zhì),但不會產(chǎn)生局部熱量。
相反,獨(dú)立可視化的熱量和熵產(chǎn)生過程是在石墨烯邊緣的單個原子缺陷發(fā)生非彈性共振散射后非局部發(fā)生的(另請參見我們以前的工作),而不會影響傳輸。我們的發(fā)現(xiàn)為隱藏真正拓?fù)浔Wo(hù)的機(jī)制提供了至關(guān)重要的見解,并為工程設(shè)計(jì)更健壯的量子態(tài)提供了場所,為設(shè)備應(yīng)用提供了建議。以下是在4.2 K下在不同石墨烯器件上測量的掃描序列。
沿與視頻1相同的樣本的頂部邊??界在放大區(qū)域中的四探針電阻Rxx(r)的掃描門圖像序列。Rxx(r)= Vxx(r)/ Idc記錄為對于各種背柵電壓Vbg,尖端位置r的函數(shù)。與視頻1相比,這里注入的總功率更小。水平虛線表示樣本的頂部邊??緣。
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